光學(xué)薄膜測量?jì)x采用光譜反射計技術(shù)測量薄膜反射光譜進(jìn)測量薄膜厚度和測量薄膜折射率等參數，非常適合日常已知膜系膜堆測量。這款測厚儀具有較長(cháng)工作距離，工作距離可調，超大樣品臺，可選光源等特點(diǎn)。
光學(xué)薄膜測量?jì)x的工作原理：
1、白光反射光譜測量方法是在一定波長(cháng)范圍內，分析垂直于樣品表面的入射光和從單層或多層堆疊薄膜反射的反射光譜的分析方法。
2、由界面&表面產(chǎn)生的反射光譜被用于確定獨立和附著(zhù)于基底（在透明或部分/全反射基底上）的堆疊膜層的厚度、光學(xué)常數等。
產(chǎn)品特征：
非接觸式、非破壞性的測試系統；
超長(cháng)壽命光源，更高的發(fā)光效率；
高分辨率、高靈敏度光譜儀，測量結果更準確可靠；
軟件界面直觀(guān)，操作方便省時(shí)；
歷史數據存儲，幫助用戶(hù)更好掌握結果；
桌面式分布設計，適用場(chǎng)景豐富；
維護成本低，保養方便。
光學(xué)薄膜測量?jì)x的優(yōu)點(diǎn)是能夠避免前期的樣品處理，甚至是不需要樣品來(lái)進(jìn)行試樣工作。傳統的測厚儀，在測量物件時(shí)，需要進(jìn)行樣品的處理，使樣品與被測量物件一致，在測量時(shí)直接應用于樣品測量。而光學(xué)測厚儀的使用是直接應用于被測量物體。
這樣的一個(gè)過(guò)程便節省了不少的工作以及資源。利用光學(xué)膜厚測量?jì)x，它可以避免了被測量物件的損壞。
之所以普通傳統的測厚儀需要用到樣品來(lái)進(jìn)行試測，就是因為在測量時(shí)，會(huì )對物體造成一定程度的表面損壞，為了避免物件的損壞，才會(huì )需要應用樣品。
而光學(xué)的測厚儀，雖然直接應用于物件表面，但其它放射出來(lái)的光卻是一樣沒(méi)有實(shí)質(zhì)的事物，在測量的時(shí)候并不會(huì )對物件造成什么樣的損傷。
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